產(chǎn)品名稱：日本SEN日森PM2001N-3貴州技術(shù)中心

姓名	桌面表面清潔重整器
模型	PM2001N-3
概述	以 185 nm 和 254 nm 的光能去除納米級有機污漬
采用	?提高樹脂表面的潤濕性 ?提高 對樹脂材料上的粘合劑、涂料、涂料的附著力 ?各種基材的前處理 ?金屬、玻璃等表面的清洗和改性? 抗蝕劑的輕度灰化、電鍍前處理
特征	-UV處理可以很容易地進行。 -由于照射尺寸為200 x 200 mm，它不僅可以用于研究，還可以用作小型生產(chǎn)機器。 - 由于工作臺旋轉(zhuǎn)，因此可以均勻照射。

于1965年在大阪成立，以開發(fā)和制造激光產(chǎn)品為宗旨。然而，激光是在 1960 年發(fā)明的。正如我在主頁上的問候中提到的，我們的激光業(yè)務(wù)現(xiàn)在還為時過早。之后，為響應(yīng)半導(dǎo)體硅片行業(yè)的需求，我們于1973年研制出高性能短波長紫外燈（低壓汞燈）。它用于對水進行**。這就是我們接觸到紫外線的原因。市場上紫外線**的歷史*悠久，已有150多年的歷史。**燈1938年由美國GE公司商業(yè)化，至今已超過80年。此外，紫外線作為**后的紫外線固化技術(shù)在 1960 年代被商品化。近年來，紫外線的應(yīng)用領(lǐng)域迅速擴大，應(yīng)用我們紫外線技術(shù)的產(chǎn)品也應(yīng)運而生。

1. 臭氧生成 ? 臭氧分解
2. 養(yǎng)魚（水產(chǎn)養(yǎng)殖、水族館）用水**
3. 貝類（鮑魚、紅貝、牡蠣貝）的誘導(dǎo)產(chǎn)卵
4. 難分解有害氣體處理（VOC等）
5. 半導(dǎo)體存儲器的記錄 擦除
6. 測量儀器的UV光源（臭氧濃度計、水質(zhì)監(jiān)測儀等）
7. UV臭氧干式**清洗
8. UV臭氧干式表面改性（提高附著力）
9. 潤滑劑的附著力HDD磁盤表面（UV）水產(chǎn)養(yǎng)殖）
10.加速臭氧處理（**水處理）