產品名稱：功能齊全 重慶內藤銷售 FE-300V 薄膜厚度監視器 OTSUKA大塚電子

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• 對應于從薄膜到厚膜的寬膜厚度
• 使用反射光譜的厚度分析
• 結構緊湊·成本低，但非接觸式，非破壞性和高度**的測量
• 簡單的條件設置和測量操作！易于測量任何人的膜厚度
• 通過非線性*小二乘法，優化方法，PV方法，FFT分析方法等可以進行各種各樣的膜厚度測量。
• 通過非線性*小二乘法的膜厚度分析算法可以進行光學常數分析（n：折射率，k：消光數計數）

• **反射率測量
• 薄膜厚度分析分析（10層）
• 光學常數分析（n：折射率，k：消光米數）

• 功能性膜，塑料
  的透明導電膜（ITO，銀納米線），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA， 膠，粘合劑，保護膜，硬外套，指紋等
• 半導體
  化合物半導體，Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，藍寶石等
• 表面處理的
  DLC涂層，防銹劑，防霧劑等
• 光學材料
  過濾器，AR涂層等
• FPD
  LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有機薄膜，密封劑）等
• 其他
  硬盤，磁帶，建筑材料等

使用大冢電子，光學干涉測量和我們自己的高精度分光光度計可實現非接觸，無損，高速和高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是通過使用由使用如圖1所示的分光光度計的光學系統獲得的反射率來獲得光學膜厚度的方法。例如，如圖1所示，在金屬基板上涂布膜的情況下，從目標試樣的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透過膜的光在基板（金屬）或膜界面（R2）上反射。測量此時由于光程差引起的相移引起的光學干涉現象，并根據所獲得的反射光譜和折射率計算膜厚度的方法稱為光學干涉方法。有四種分析方法：峰谷方法，頻率分析方法，非線性*小二乘法和優化方法。

* 1請與我們聯系以獲取詳細信息
* 2 
超大規模集成電路薄膜厚度保證（100納米二氧化硅/硅）* 3 所述的測量保證值范圍對于VLSI薄膜厚度標準（100納米二氧化硅/硅）重復測量的不確定性（包含因子2.1）