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產品名稱：功能齊全重慶內藤銷售 FE-5000 光譜橢偏儀 OTSUKA大塚電子
產品型號：FE-5000
產品廠商：OTSUKA大塚電子
產品價格：0
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簡單介紹：

除了能夠進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏振光譜儀之外，還可以通過安裝測量角度的自功能齊全重慶內藤銷售 FE-5000 光譜橢偏儀 OTSUKA大塚電子動可變機構來支持各種薄膜。除了傳統的旋轉分析儀方法之外，通過提供相位差板的自動功能齊全重慶內藤銷售 FE-5000 光譜橢偏儀 OTSUKA大塚電子回縮機構來提高測量精度。

詳情介紹：

除了能夠進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏振光譜儀之外，還可以通過安裝測量角度的自動可變機構來支持各種薄膜。除了傳統的旋轉分析儀方法之外，通過提供相位差板的自動回縮機構來提高測量精度。

（詳情請咨詢TEL:18375760285 QQ;1280713150 白先生）

特點

橢圓參數測量可以在紫外和可見光（250-800nm）的波長范圍內進行
納米級多層薄膜的厚度分析
Ellipso光譜可以通過400多ch的多通道光譜快速測量
對應于通過可變反射角度測量的薄膜的詳細分析
通過創建光學常數數據庫并添加配方注冊功能，可以增強操作的便利性
可以通過層膜配合分析通過光學常數測量來控制膜厚度/膜質量

測量項目

橢圓參數（tanψ，cosΔ）測量
光學常數（n：折射率，k：消光系數）分析
薄膜厚度分析

應用程序使用

半導體晶片
的柵氧化膜，氮化物膜
的SiO 2，硅X ? ?，氮化硅，的SiON，氮化硅X，AL 2 ? 3由SiN X ? ?，多晶Si，硒化鋅，BPSG，氮化鈦
的抗蝕劑（波長色散）的光學常數
化合物半導體
Al x Ga （1-x） As多層膜，非晶硅
用于等離子顯示器的FPD
定向膜
ITO，MgO等
各種新材料
DLC（Diamond Like Carbon），超導薄膜，磁頭薄膜等
光學薄膜
TiO 2，SiO 2，多層膜，減反射膜，反射膜
光刻領域
g線（436納米），h線（405納米），i線（365納米）中，n在各波長，諸如KrF受（248nm的）中，k評價

產品規格

模型	FE-5000S	FE-5000
測量樣本	反射測量樣本
樣本大小	100 x 100毫米	200 x 200毫米
測量方法	旋轉分析儀方法* 1
測量的薄膜厚度范圍（nd）	0.1納米 -
事件（反射）角度范圍	45到90°	45到90°
事件（反射）角度驅動系統	自動簽名欄的驅動方法
入射點直徑* 2	關于φ2.0	關于φ1.2sup * 3
tanψ測量精度	±0.01以下
cosΔ測量精度	±0.01以下
膜厚的可重復性	0.01％以下* 4
測量波長范圍* 5	300至800納米	250至800納米
光譜探測器	多色儀（PDA，CCD）
測量光源	高穩定性氙燈* 6
舞臺傳動系統	手冊	手動/自動
加載器兼容	不當	是的
尺寸，重量	650（W）×400（D）×560（H）mm 約50kg	1300（W）×900（D）×1750（H）mm 約350kg * 7
軟件
分析	*小二乘薄膜分析（折射率模型函數，柯西色散方程模型方程，如NK-柯西色散方程模型分析）理論方程分析（本體表面NK分析，角度依賴性同時分析）