
主營產品:
光學儀器、光學材料、實驗儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設備、靜電輔料、工業器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計量設備、氣動工具、電動工具、化工設備、化工輔料、點膠設備、小型設備、儲存設備、物流設備、工業安防、**防護、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設備、辦公文 具、工裝夾具、測試治具、機械加工。設備等。
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產品詳情
簡單介紹:
配備原裝分析引擎
功能齊全 重慶內藤銷售 SF-3 光譜干涉式晶圓測厚儀 OTSUKA大塚電子
采用獨特的厚度測量*佳分析算法
功能齊全 重慶內藤銷售 SF-3 光譜干涉式晶圓測厚儀 OTSUKA大塚電子
厚度分布可以自動映射
詳情介紹:
特點
- 厚度可以通過光學方法非接觸式/非破壞式地測量
- 頻譜分析后進行調節
- 拋光監控可以實時高速進行
- 測量中間層,如保護膜,窗口材料是可能的
- 多層厚度分析
- 配備原裝分析引擎(正在申請**)
- 采用獨特的厚度測量*佳分析算法?(**)
- 厚度分布可以自動映射
(詳情請咨詢TEL:18375760285 QQ;1280713150 白先生)
測量項目
- 薄膜厚度分析(5層)
應用程序使用
- 硅元件厚度的評估
- 研磨評估硅和化合物半導體
- 1.3毫米新一代450毫米晶圓
- 775微米300毫米晶圓
- TSV晶圓(測量通孔上的Si膜和Si層膜)
- 也適用于硅晶片以外的材料廣泛適用(SiO 2,樹脂薄膜)
產品規格
模型 | SF-3 |
厚度測量范圍 | 0.1μm至10μm,15μm至1000μm,10μm至775μm *,50μm至1600μm* |
重復性 | 0.01%以下 |
測量時間 | *快200μs(5 kHz) |
測量光源 | 半導體光源 |
測量直徑 | *小φ6μm |
WD | 取決于10毫米或更多的任意距離 |
維 | 123(W)×224(D)×128(H)mm(不包括突起) |
設備配置
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