產品名稱：OTSUKA大塚電子Zeta電位和粒度分析儀naitokikai

• 從稀釋溶液到濃縮溶液 (~ 40%) 的寬濃度范圍內的粒徑和 zeta 電位測量
• 多角度測量，進行粒度分布，分離度更高
• 高鹽濃度下固體表面 Zeta 電位測量
• 使用靜態(tài)光散射的粒子濃度分析     
• 使用動態(tài)光散射進行微流變學測量
• 通過多點測量散射光強度和樣品擴散系數分析凝膠網絡和凝膠異質性 
• 無需更換樣品即可用于兩種類型測量（粒徑和 zeta 電位）的標準流通池
• ０～90℃的寬測量溫度范圍
• 可對蛋白質進行變性（熔解溫度）分析的溫度梯度功能
• 用于精準 zeta 電位測量的電泳遷移率測量和繪圖分析
• 帶通濾波器（選項）
   

• 粒度分布
• Zeta 電位
• 分子量
• 微流變學
• 粒子濃度
• 凝膠網絡的結構分析
   

 ^＊ 1：直方圖分析的*小值：0.2nm
●測量條件

*2:（Latex112nm： 0.00001 ～ 10%、?；悄懰幔?～ 40%）

*適用于表面化學、無機、半導體、聚合物、生物技術、制藥和醫(yī)療等領域的粒子表征基礎和應用研究，以及薄膜和平面狀態(tài)樣品的表面研究。

• 新功能材料
  燃料電池（碳納米管、富勒烯、功能膜、催化劑、納米金屬）
  生物納米技術（納米膠囊、樹枝狀聚合物、**輸送系統（DDS））、納米氣泡
  生物相容材料
   
• 陶瓷和涂料
  陶瓷（二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦_）無機
  溶膠的表面改性、分散控制 油墨
  、炭黑、有機顏料的分散性、耐久性和保質期控制 漿
  態(tài)樣品
  濾色片
  絮凝研究


• Semiconductor
  Alien objects research on silicon wafer
  磨料/添加劑對硅片表面
  CMP漿料的相互作用研究
   
• 聚合物和化學
  乳液分散穩(wěn)定性以延長產品保質期
  乳膠表面改性 聚
  電解質功能研究
  造紙過程控制和紙漿添加劑研究
   
• 制藥和食品
  乳液分散穩(wěn)定性可延長產品保質期
  脂質體和囊泡的分散控制 表面
  活性劑（膠束）的功能
  外泌體、
  病毒、病毒樣顆粒（VLP）
  

• 蛋白質

  規(guī)格

  測量項目
  • 粒度分布
  • Zeta 電位
  • 分子量
  • 微流變學
  • 粒子濃度
  • 凝膠網絡的結構分析
     

  規(guī)格

  原則	粒徑		動態(tài)光散射法
  	Zeta 電位		電泳光散射法     （激光多普勒法）
  	分子量		靜態(tài)光散射法
  光學	粒徑		零差系統
  	Zeta 電位		外差系統
  	分子量		零差系統
  光源	窄帶激光二極管
  探測器	高靈敏度 APD
  電池單元	Zeta 電位/粒徑：標準流通池單元
  	粒度：粒度單元
  	粒徑/分子量 : 粒徑多角池單元
  溫度	0 ～ 90℃ （帶梯度功能）
  電源要求	交流電 100 - 240V，50/60Hz，250VA
  尺碼(WDH）	330（W)×565（D)×245（H)mm
  重量	約 22公斤
  標準	粒徑：ISO 22412:2017 / JIS Z 8828:2019
  	Zeta 電位：ISO 13099-2:2012/JIS Z 8836:2017